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更新日(ri)期:2023-03-26
簡要描述:
Zirpro 單斜氧化鋯粉末由于(yu)其(qi)出(chu)色(se)的物理和化(hua)學(xue)特性,單(dan)斜(xie)氧(yang)化(hua)鋯(gao)(gao)粉(fen)末(mo)非常適合用于(yu)制造結構和功能(neng)性先進(jin)陶瓷(ci)(ci)。單(dan)斜(xie)氧(yang)化(hua)鋯(gao)(gao)在多種陶瓷(ci)(ci)應(ying)用中都是不(bu)可(ke)少的: 瓷(ci)(ci)磚裝飾顏(yan)料(liao)(liao)(liao)、耐火材料(liao)(liao)(liao)、PZT 和介(jie)電材料(liao)(liao)(liao)、磨料(liao)(liao)(liao)、熱障涂層,還有膜(mo)應(ying)用的填料(liao)(liao)(liao),甚(shen)至是LiB 陰極材料(liao)(liao)(liao)的摻雜(za)劑。
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Zirpro 單斜氧化鋯粉末
由于其出色的(de)物理和(he)化(hua)學(xue)特性,單(dan)斜氧(yang)化(hua)鋯粉(fen)末非常適合用(yong)于制(zhi)造結(jie)構(gou)和(he)功(gong)能性先進陶(tao)(tao)瓷(ci)。單(dan)斜氧(yang)化(hua)鋯在多(duo)種陶(tao)(tao)瓷(ci)應用(yong)中都是(shi)不可少的(de): 瓷(ci)磚裝飾顏料(liao)、耐火材料(liao)、PZT 和(he)介電材料(liao)、磨(mo)料(liao)、熱障涂層,還有膜應用(yong)的(de)填料(liao),甚至是(shi)LiB 陰極(ji)材料(liao)的(de)摻雜(za)劑(ji)。
ZirPro 運營(ying)兩種基于(yu)天然(ran)硅酸鋯熱處(chu)(chu)理(li)(li)或化學處(chu)(chu)理(li)(li)的工業氧化鋯制造(zao)工藝:
熱氧(yang)化鋯牌(pai)號(hao)CC、CS 和 CF憑借其樹枝(zhi)狀顆(ke)粒(li)形態,比熔融粉(fen)末具有更高的反應性(xing)。
化(hua)學氧化(hua)鋯等級CZ、CZP 和 CZE是高純度(du)粉末,具(ju)有廣泛(fan)的粒度(du)分布和反(fan)應性。
由于其樹枝狀顆(ke)粒(li)形態,熱氧化(hua)鋯牌號比熔融粉(fen)末具有(you)更高的(de)反應性。
熱氧(yang)化鋯等級采用 ZirPro 專有工藝制造(zao),該工藝結合(he)了鋯英(ying)砂熔合(he)和化學處理。
ZirPro 提供三(san)種等級的導(dao)熱氧(yang)化鋯:CC、CS 和 CF。
CC 粉末由于樹(shu)枝狀形態而(er)表(biao)現出高反應性(xing)。
CC 級(ji)是熱氧化(hua)鋯,由(you)硅(gui)酸(suan)鋯在高溫下熔融并結合(he)化(hua)學處理制成。
得(de)益(yi)于 ZirPro 的(de)工藝,CC 粉末具有比熔(rong)融氧化鋯更高的(de)反應性。
Zirpro 單斜(xie)氧化(hua)鋯粉(fen)末
D50 從4.5 µm 到 1.0 µm
典型比表面積為3.0 至 6.0 m2/g
抄送 | |||||
CC10 | CC05 | CC02 | CC01 | ||
D50(微米) | 4.5 | 1.7 | 1.2 | 1.0 | |
SSA(米2 /克) | 1.3 - 4.3 | 2.0 - 5.0 | 3.0 - 6.0 | 4.5 - 7.0 | |
純(chun)度(ppm) | 二氧化(hua)硅 | 500 | |||
鈉(na)2O | 200 | ||||
鋁2O3 | 100 | ||||
二氧(yang)化(hua)太(tai) | 100 | ||||
三氧化二鐵 | 40 | ||||
氧(yang)化鈣 | 30 |
單斜氧化鋯 | ||||||
抄送 | CS | CF | 捷(jie)克 | 中正ZP | 捷克澤爾 | |
純(chun)度(%) | 98.8 | 99.0 | 99.0 | >99.9 | >99.9 | >99.9 |
D50(微米) | 1.0 - 4.5 | 0.8 - 3.9 | 1.0 - 7.0 | 2.5 - 25.0 | 5.0 - 15.0 | 0.4 - 0.7 |
表(biao)面(mian)表(biao)面(mian)積 (平方(fang)米(mi)/克(ke)) | 3.0 - 6.0 | 1.5 - 6.5 | 4.5 - 7.5 | 5.0 - 8.0 | 2.0 - 3.0 | 6.0 - 25.0 |
與 CC 等(deng)級相比(bi),CS 等(deng)級表現出(chu)更高的純(chun)度(du)
CS 等級是通過CC 熱氧化(hua)(hua)鋯的(de)純(chun)化(hua)(hua)獲得的(de),從而提高了粉末的(de)純(chun)度,并更好(hao)地控(kong)制(zhi)了比表面積 (SSA)。
可實現大范圍(wei)的 d50 和 SSA:
• D50從3.9μm到0.8μm
• 典(dian)型比表面(mian)積(ji)為1.5 至(zhi) 6.5 m2/g
CS氧化(hua)鋯(gao) | |||||
CS10 | CS05 | CS02 | CS01 | ||
D50(微米(mi)) | 3.9 | 1.6 | 0.9 | 0.8 | |
SSA(米(mi)2 /克) | 1.0 - 2.5 | 1.4 | 2.9 | 2.0 - 3.5 | |
純度(ppm) | 二氧化硅 | 80 | |||
鈉2O | 20 | ||||
鋁2O3 | 80 | ||||
三氧化二鐵 | 20 | ||||
由(you)于具有(you)(you)更細的枝(zhi)晶形(xing)態(tai),CF 粉(fen)末表現(xian)出比(bi) CC 等(deng)(deng)級(ji)更高的反應(ying)性。 CF 等(deng)(deng)級(ji)是熱(re)氧化(hua)鋯(gao)粉(fen)末,通(tong)過使用等(deng)(deng)離(li)子弧熔融(rong)硅酸鋯(gao)并隨后進行化(hua)學處理而生產。無論顆粒大(da)小如(ru)何,等(deng)(deng)離(li)子體(ti)技術(shu)都能夠在所有(you)(you)熱(re)氧化(hua)鋯(gao)等(deng)(deng)級(ji)中(zhong)實現(xian)最高的反應(ying)性。 CF 氧化(hua)鋯(gao)具有(you)(you)高比(bi)表面積,通(tong)常約(yue)為 6 平方米/克,粒徑范圍為 7.0 至 1.0 μm。
CF氧化鋯 | |||||
CF10 | CF02 | CF02-LS | |||
D50(微(wei)米) | 7.0 | 1.0 | 1.0 | ||
SSA(米(mi)2 /克(ke)) | 4.5 - 7.5 | ||||
純(chun)度(ppm) | 二氧化硅 | 400 | 100 | ||
鈉2O | 50 | 50 | |||
鋁2O3 | 50 | 50 | |||
三氧化二鐵 | 40 | 30 | |||
CZ 和 CZP 是高純度化學氧(yang)化鋯(gao)粉末,可實(shi)現多種粒(li)度分(fen)布。 CZ 和 CZP 牌(pai)號源(yuan)自氯氧(yang)化鋯(gao)。與 CZ 粉末 (Cl < 1000 ppm) 相比(bi), CZP 牌(pai)號的氯含量較(jiao)低 (Cl < 200 ppm),因(yin)此是敏感(gan)應用的選(xuan)擇。 可用的粒(li)徑分(fen)布范圍為2.5 至 25μm。其他反應性和粒(li)徑可根據要求(qiu)實(shi)現。
捷克 | CZP-5 | |||||
長征(zheng)-3 | 長征5號(hao) | CZ-25 | CZP-5 | CZP-15 | ||
D50(微米(mi)) | 2.5 | 4.5 | 25.0 | 4.5 | 16.5 | |
SSA(米2 /克) | 1.0 - 11.0 | 4.0 - 8.0 | 3.0 - 7.0 | 1.0 - 5.0 | 0.5 - 4.0 | |
純度(ppm) | 二(er)氧(yang)化硅 | <100 | ||||
鈉2O | <50 | |||||
鋁2O3 | <100 | |||||
三氧化二鐵 | <50 | |||||
CI | <1000 | <200 |
CZE 粉末是經過(guo)化學加(jia)工的(de)氧(yang)化鋯等(deng)級(ji),兼具(ju)高反(fan)應性和(he)純度(du)。 CZE 牌號是高度(du)工程化的(de)單斜氧(yang)化鋯,通過(guo)鋯鹽的(de)化學沉(chen)淀,然后進行熱處(chu)理(li)和(he)物理(li)處(chu)理(li)來制造,用于精(jing)確控制化學純度(du)、粒度(du)分(fen)布(bu)和(he)反(fan)應性。除(chu)了(le)市售(shou)等(deng)級(ji)之(zhi)外,還可根據要求開發其他尺寸分(fen)布(bu)和(he)比表面積。
捷克澤(ze)爾 | |||||||
捷克(ke)-X1 | 捷克(ke)-S1 | 捷克-M1 | 捷克-G1 | 捷克-H2 | CZE-UH2 | ||
D50(微米) | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.7 | 1 至(zhi) 2 | 1 至(zhi) 3 | |
SSA(米2 /克) | 4.0 - 8.0 | 4.0 - 8.0 | 14.0 - 18.0 | 23.0 - 27.0 | 30.0 - 45.0 | 80.0 - 100.0 | |
純度(du)(ppm) | 二(er)氧化硅(gui) | <100 | <200 | <200 | |||
鈉2O | <100 | <200 | <300 | ||||
鋁2O3 | <100 | <100 | <100 | ||||
二氧化太 | <20 | <50 | <50 | ||||
三(san)氧化二鐵 | <20 | <50 | <50 | ||||
CI | <100 | <100 | <300 |