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excimer臺式紫外線照射設備臭氧分解OZFDT型 氧分析儀

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更新(xin)日期:2023-03-25

簡要描述:

excimer臺式紫外線照射設備臭氧分解OZFDT型
臭(chou)(chou)氧(yang)用于(yu)殺(sha)菌、除臭(chou)(chou)、清洗(xi)、重整等時,臭(chou)(chou)氧(yang)氣體難以排(pai)(pai)出。如果直接用完(wan),管道和風扇(shan)會腐蝕,很(hen)危險。如果排(pai)(pai)到外面,它(ta)會擴散,但不安全,因(yin)為(wei)排(pai)(pai)氣口附近的臭(chou)(chou)氧(yang)氣體濃度(du)很(hen)高。

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excimer臺式紫外線照射設備臭氧分解OZFDT型 


特征

  • 分解桌面紫外線照射設備產生的臭(chou)氧廢氣。

  • 即使在沒有局(ju)部排氣(qi)設備(bei)的(de)環(huan)境(jing)中也能對臭氧進(jin)行(xing)解毒。

  • 非金屬(shu)催化劑分解高(gao)濃度(du)臭氧氣體

  • 廢(fei)氣濃度 0.1ppm 以(yi)下

  • 長壽命設計催化劑(ji)壽命 1 年


臭氧用于殺菌、除臭、清洗、重整等時,臭氧氣體難以排出。如果直接用完,管道和風扇會腐蝕,很危險。如果排到外面,它會擴散,但不安全,因為排氣口附近的臭氧氣體濃度很高。在工廠,酸廢氣用抽氣機或洗滌器處理,但在工廠外,通常用臭氧過濾器排除。
傳統的臭氧過濾(lv)器(qi)(qi)分解器(qi)(qi)需要(yao)大容量、成本高(gao)且占用空間大,才能在短時間內處理高(gao)濃(nong)度臭氧氣體。為了配合小型(xing)臭氧利用裝置使用臭氧過濾(lv)器(qi)(qi),通常在裝置內部放(fang)置臭氧過濾(lv)器(qi)(qi),循環直至臭氧氣體被稀釋。


我們在半導體制造設備等方面積累了豐富的技術和經驗,盡管臭氧過濾器尺寸小,但由于其高性能,因此無需在設備中循環臭氧氣體即可一次性排出的廢氣濃度0.1 ppm或更(geng)少。我們已經實現并銷售了帶有內置排氣扇的臭氧分解裝置。這種方法的優點是不需要循環處理,縮短了整個設備的處理時間。此外,由于臭氧分(fen)解過濾(lv)(lv)器(qi)在(zai)(zai)設備外部(bu),因此不(bu)存在(zai)(zai)臭氧過濾(lv)(lv)器(qi)中使用(yong)的活性炭(tan)和重金屬催化劑等成(cheng)分(fen)導致(zhi)設備內(nei)部(bu)再污染的結構可能(neng)性。單程臭氧消減裝置是(shi)一(yi)種超潔凈設計理念。

excimer臺式紫外線照射設備臭氧分解OZFDT型 

規格

模型OZFDT
目標設備172DT
電源供應AC100V 50 / 60Hz
出口臭氧濃度
0.1ppm以下*1(本廠測量條件)
風管連接直徑外徑φ51.5mm
外形尺寸220W x 250H x 220D 毫米





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